真空熱處理爐是實現(xiàn)真空熱處理的重要設(shè)備。爐內(nèi)氣壓低于正常氣壓。爐內(nèi)氣氛相當(dāng)于一種氣體，可使熱處理工作不氧化。

真空處理爐的用途很廣，主要用于結(jié)構(gòu)鋼、不誘鋼、耐熱合金、精密合金以及材料的真空回火，時效、退火、淬火，

也可以用于真空除氣，釬焊和燒結(jié)等方面。（真空爐）

因此，選擇真空熱處理爐的需要注意以下幾點因素：

1、真空爐選擇要根據(jù)所要熱處理的零件化學(xué)成分和加熱溫度實現(xiàn)必須滿足金屬氧化物與一氧化碳平衡分解壓的關(guān)系并且要

考慮一定的余地不要追求高的真空度真空度過高不僅會造成合金元素的揮發(fā)而且會造成設(shè)備的配置提高投資費用增加。

2、冷卻形式真空爐的冷卻有油冷和氣冷。目前主要以氣冷為主因為氣冷對熱處理零件無任何污染和不良影響油冷有表面

微滲碳問題對質(zhì)量有影響處理后零件表面潔凈不需要清洗所以在滿足冷卻速度的條件下一般以氣冷淬火作為首選。

氣冷的冷卻速度主要受氣壓、流速與氣流的形式和分布等因素的影響在進行選擇時要全面考慮。一般情況氣壓高、

流速大、冷卻速度快即冷卻速度是直接受到氣壓和流速的影響。另外氣冷時換熱器冷卻水的流量大小對于實際冷卻有明顯的影響。

我們體會同樣的氣壓和流量條件比較冷卻水流量大者冷卻速度明顯加快。 冷卻的均勻性十分重要有一些真空爐噴嘴分布設(shè)計考慮

不足靠爐門一側(cè)未設(shè)置噴氣嘴使用中發(fā)現(xiàn)冷卻速度有明顯差異尤其是處理較大零件更為顯著導(dǎo)致淬火不足、均勻性變差。

3、加熱元件形式真空爐加熱元件的形式和材料有一定的不同一般以板式和棒式為多材料為高質(zhì)量石墨。近年來CFC碳碳復(fù)合材料的

出現(xiàn)表現(xiàn)出較大的技術(shù)優(yōu)勢有取代石墨的趨勢。同樣功率的情況下CFC材料厚度薄相對蓄熱小有利于提高冷卻速度。

4、功能購置爐子要考慮工藝的通用性即淬火回火使用溫度范圍要寬。特別是處理高合金鋼回火溫度較高并且淬火后不出爐直接

進行回火十分方便。

5、控制系統(tǒng)是真空加熱爐的核心部分確保其可靠性和完善性及其重要。最好有監(jiān)控和故障顯示、記錄功能對于進口設(shè)備需要配備

遠程監(jiān)控功能這樣可以保證故障處理的及時性減少一定的維修費用。

6、其他密封性和真空系統(tǒng)配置的可靠性也是重要環(huán)節(jié)。設(shè)備造型時不可從形式力求繁雜一定要在對比的基礎(chǔ)上力求可靠。